高端工艺化学品安全供给
超高纯度化学品供给对高科技生产的产品品质和工艺稳定性至关重要。清洗和蚀刻工序中所用的腐蚀性介质对材料的耐蚀性和纯度有着很高要求。从化学品调配到废液排放，一套可靠的系统对高效稳定的生产至关重要。
高纯为先，精准管控
半导体行业对工艺稳定性、耐化学腐蚀性以及关键介质输送管控有着严苛的标准。尤其是超纯水、耐腐蚀性化学品与研磨液，需要坚固可靠的解决方案，即使在严苛的纯度要求与空间限制下也能平稳运行。
盖米为客户提供湿法工艺介质的安全输送、超纯水与工艺化学品介质的持续供应和高性价比供应系统规划的全方位支持。盖米的阀门和测控系统可实现低颗粒物过程管控，具备优异的阀体耐蚀性与精准的流量调节，从而在精密制造场景中为稳定且可重复的工艺奠定基础。
高端工艺化学品安全供给
超高纯度化学品供给对高科技生产的产品品质和工艺稳定性至关重要。清洗和蚀刻工序中所用的腐蚀性介质对材料的耐蚀性和纯度有着很高要求。从化学品调配到废液排放，一套可靠的系统对高效稳定的生产至关重要。
精准背压控制，保障晶圆湿法工序持续稳定
半导体工厂对输送至工艺设备的介质流量进行精准调控。即使在管路流量出现波动时，背压控制装置也能凭借可单独调节的端口进行调控，从而维持管路压力恒定。
超高纯化学配比，保障工艺稳定性
DFS混合系统可为半导体核心工艺生产超高纯度的氢氧化铵（NH₄OH）（<10 ppt）。该系统搭配盖米的CleanStar系列高流量阀体，可实现大通流能力、优异的耐化学腐蚀性与超高纯度等特性。
实现效果：工艺运行平稳、设备停机频次低，产品在应用中的高可靠性。
研磨液高效输送，保障工艺稳定性
在半导体生产中，磨蚀性介质的输送管控至关重要。从硅切割所用的粗粒切割研磨液，到CMP工序的精细抛光液，每一种介质都需要格外精细化的处理，以产出结构精密的镜面级晶圆。
无紊流供应研磨液，保障工艺稳定性
CMP抛光液的供应对介质管路要求严苛。流体紊流会造成浆料颗粒团聚结块，进而降低过滤性能。采用结构紧凑且经过优化的流体解决方案，可实现介质均匀输送、生产工况稳定。
采用GEMÜ PC50集成多通道阀组，能为您有效规避管路紊流带来的这类问题。
适配严苛湿法制程的可靠方案
湿法工艺是半导体制造的核心环节，对设备与器件有着很高要求。虽然基础工况的纯度要求较低，但现代芯片工艺则需要使用耐腐蚀性化学品，并确保无颗粒、具备优异抗化学侵蚀性能。PTFE/PFA材质超高纯阀门可充分满足需求，保障工艺全程稳定可控。
高效FOUP清洗，坚守超高纯度
FOUP用于光刻、CMP和蚀刻等洁净室工序之间的晶圆运输。彻底的清洁对于避免颗粒物和空气分子污染物残留至关重要。该工艺需要清洗介质可靠混合、气体与纯化水稳定输送，同时选用紧凑型氟塑料超高纯器件以适配紧凑的空间布局。
电镀槽液精准调控与补给
在芯片生产过程中，化学槽液会被持续监测并自动补加，以稳定槽液浓度与温度。
盖米高精度测控系统可在洁净室实现精准管控，保障生产品质稳定。
精准温控，确保清洗工序稳定运行
对于FOUP、EUV掩模盒等工件的高效清洗作业，精确且恒定的介质温度至关重要。高温可提升清洗效率，但需要将纯化热水与常温水进行精准混合。
盖米为您提供专用混水调控方案，从而保障工艺稳定性、可重复性并提升生产效率。
可靠溶剂供应，确保高纯度与防爆安全
异丙醇、丙酮和NMP等溶剂在半导体制造中不可或缺，但对材料的耐受性、纯度和安全性有着严格要求。
低滞留不锈钢阀门与多通道集成阀组可满足上述要求，符合 ATEX 防爆规范，确保关键制程可靠运行。
有机溶剂的安全供应
半导体行业常使用异丙醇、丙酮、NMP 等有机溶剂完成工件清洗与光刻胶剥离工序。
盖米的不锈钢隔膜阀或多通道集成阀组，满足严格的防火防爆、表面光洁度和密封连接要求，是精确安全供应溶剂的理想选择。
适用于半导体行业的理想解决方案
盖米一站式为半导体行业提供成熟可靠、安全合规且经过验证的整套流体控制方案。您可在此了解适配生产线的各类阀门产品。
盖米在半导体行业的认证
盖米：您值得信赖的半导体行业合作伙伴
方案品类齐全
技术积淀深厚，经验丰富
高质量要求
广泛的不锈钢产品线
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